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制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置(物理气相沉积装置(PVD))
| 海关编码 | 8486202200 |
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置(物理气相沉积装置(PVD)) |
| 商品描述英文 | Physical Vapour Deposition(PVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
| 申报要素 | 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌;5:型号;6:GTIN;7:CAS; |
| 申报要素举例 | 1.蒸发台(旧);2.在晶片表面镀上金属薄膜;3.在半导体表面制备金属薄膜;4.无品牌;5.无型号 |
| 第一法定单位 | 台 |
| 第二法定单位 | 无 |
| 最惠国进口税率 | 0% |
| 普通进口税率 | 30% |
| 暂定进口税率 | - |
| 消费税率 | - |
| 出口关税率 | 0% |
| 出口退税率 | 16% |
| 增值税率 | 16% |
| 海关监管条件 | 无 |
| 检验检疫类别 | 无 |