制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD))

海关编码	8486202100
商品描述	制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD))
商品描述英文	Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis
申报要素	0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌;5:型号;6:GTIN;7:CAS;
申报要素举例	1.金属有机物化学气相淀积设备；2.用于制造外延片；3.由压力控制，温度控制，反应室等子系统通过计算机软件连接组成，可按照设计需求独立设定气流，压力，温度等工艺参数值，制备满足设计需求的外延片；4.无品牌；5.无型号
第一法定单位	台
第二法定单位	无
最惠国进口税率	0%
普通进口税率	30%
暂定进口税率	-
消费税率	-
出口关税率	0%
出口退税率	16%
增值税率	16%
海关监管条件	无
检验检疫类别	无